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快速升溫製程處理(RTP) - 半導體 - Applied Materials

以長溫退火、瞬間退火、毫秒級退火、和自由基熱氧化製程作不同應用。選擇哪種技術取決於許多因素，包含元件在製程中的特定要求，如對特定溫度及其暴露時間的容忍度。

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