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突破海外垄断，拓荆科技：半导体薄膜沉积设备国产龙头

2022年6月30日 — 拓荆科技成立于2010年4月，主要生产半导体设备中的薄膜沉积设备。 公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ ...

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