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2021 半導體設備原子級薄膜製程技術交流會

原子層沉積(Atomic Layer Deposition, ALD) 及蝕刻技術(Atomic Layer Etching, ALE) 由於具有自我侷限(self-limiting) 機制，能控制薄膜成長厚度及蝕刻 ...

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