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半導體缺陷
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TW201314779A - 修補氧化物半導體層之缺陷的方法
一種修補氧化物半導體層之缺陷的方法,包括下列步驟。首先提供一基板,並於基板上形成一氧化物半導體層。接著將基板載入一反應室內,並於反應室內通入至少一有機氣體, ...
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