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06. - 大宇國際/ 證券投資顧問（股）公司

光罩在半導體前段製程中的用途，是利用光蝕刻技術，將半導體上形成的圖型，運用光罩 ... 顯影: 光阻曝光於電子束的部分通過顯影製程去除（正光阻）。

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