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半導體乾蝕刻技術pdf
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《半导体IC 制造流程》 《晶柱成长制程》
半导体 制造最后一个制程为测试,测试制程可分成初步测试与最终测试, ... 制程规格(线宽/间距=0.22 微米/0.23 微米)之铝导线蚀刻技术;同时完成光阻.
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