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半導體乾蝕刻技術pdf
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Chap9 蝕刻(Etching)
反應性離子蝕刻法(Reactive Ion Etch,RIE),介於濺擊. 蝕刻與電漿蝕刻間的乾式蝕刻技術。優點為兼具非等向性. 蝕刻( 80°~90°)及可接受的選擇性蝕刻。
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