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美國加州理工學院研習微機電技術 - 淡江大學機構典藏

2. 電漿去光阻機(Plasma etcher,此地是所謂PE-II的機台,並不具備非等向性. 乾蝕刻的功能,價位遠低於RIE,後續水解槽與廢氣設施可與RIE 共用) 對. 於半導體與微機電製程都 ...

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