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半導體乾蝕刻技術pdf
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https://patents.google.com/patent/CN103065960A/zh
金属膜的干蚀刻方法- CN103065960A - Google Patents
该金属膜的干蚀刻方法不使用卤素气体并能够使孔、沟槽的侧壁形状更接近铅垂。 ... 背景技术. 利用由电流磁场进行的反磁化来存储信息的磁信息装置由半导体晶圆制造,该 ...
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