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半導體乾蝕刻技術
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2、干法蝕刻(dry etch)基礎知識介紹 - 人人焦點
蝕刻 是半導體製造過程中關鍵技術之一,litho曝光完成對圖案的傳遞後,再利用蝕刻技術把圖案轉移到光刻膠下面的film中。蝕刻可分爲溼法(wet etch)和干法(dry ...
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