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利用原子層蝕刻技術克服EUV隨機變異 - 電子工程專輯

蝕刻 是一項發展完備、可用來提升LER的技術，但是，日益增加的隨機變異性，已使符合EPE預算變得更具挑戰性。 極紫外光(EUV)微影技術即將邁入生產， ...

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