你即將離開本站

並前往https://www.plasma.com/zh/%E4%BD%BF%E7%94%A8-%E7%AD%89%E7%A6%BB%E5%AD%90%E4%BD%93-%E8%BF%9B%E8%A1%8C%E8%9A%80%E5%88%BB/

使用等离子体进行蚀刻：氧化层、光刻胶的分解 - Plasma.com

其也被称为干式蚀刻，因为常规蚀刻工艺是使用腐蚀性酸通过湿化学法进行的。 ... 分解氧化层; 去除光刻胶（“剥离”）; 矩阵灰化，用于分析; PTFE 的蚀刻; 半导体的结构化 ...

確定！ 回上一頁

查詢 「半導體乾蝕刻技術二手」的人也找了：

  1. 半導體乾蝕刻技術pdf
    2.
  2. 半導體乾蝕刻技術野尻一男pdf
    3.
  3. 半導體乾蝕刻技術博客來
    4.