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雷射退火再結晶低溫複晶矽薄膜電晶體之特性研究 - 國立交通 ...

項製程，針對於雷射退火再結晶低溫複晶矽薄膜電晶體之特性研究。其前處理清洗製程. 利用濃度為0.1%的氫氟酸清洗，並配合多項改善方法及技術以期進一步提昇低溫複晶.

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