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微影製程 - 國立高雄科技大學第一校區

光阻 塗佈. > 光罩對準曝光. > 加熱烤版 ... 有機物、光阻劑. > 金屬離子. > 原生氧化層 ... 半導體製程光阻在預烤後的典型厚度為0.5~2 μm，若以光阻.

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