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半導體裝置之光刻機原理及發展 - 日間新聞

光刻 的原理是在矽片表面覆蓋一層具有高度光敏感性光刻膠，再用光線（一般是紫外光、深紫外光、極紫外光）透過掩模照射在矽片表面，被光線照射到的光刻膠會 ...

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