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半導體器件用光掩模| TOPPAN PHOTOMASK

二元掩模（Binary Masks）是僅透過單純的遮光膜圖案形成的掩模。作為僅具有單純地透過／遮掩光線功能的掩模，主要用於形成粗細超過曝光波長的圖案。

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