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在 reticle光罩產品中有3篇Facebook貼文，粉絲數超過54萬的網紅Technews 科技新報，也在其Facebook貼文中提到， 為因應逐漸提升的高階晶片市場需求，台積電持續發展 CoWoS 封裝技術，且現階段仍無競爭對手，台積電可說是保有了一定的領先優勢。 ─ 科技新報 Telegram 頻道開張✨ https://t.me/technews_tw...
[爆卦]reticle光罩是什麼？優點缺點精華區懶人包
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#1光罩- 維基百科，自由的百科全書
光罩 （英語：Reticle, Mask）：在製作積體電路的過程中，利用光蝕刻技術，在半導體上形成圖型，為將圖型複製於晶圓上，必須透過光罩作用的原理。
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#31. 鉻板光罩Mask/Reticle-產品規格SPEC | 松竹梅微米有限公司
鉻板光罩/ Mask/Reticle / フォトマスク/ 铬板光罩. Item, Mask/Reticle, Substrate, Material, Thickness, Ratio, Min L/S:±Tolerance. Total pitch accuracy.
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#4光罩- Reticle, Mask):在製作IC的過程中 - 華人百科
實體結構:布滿積體電路圖像的鉻金屬薄膜的石英玻璃片上的圖像。 倍縮光罩(Reticle):當鉻膜玻璃僅能局部覆蓋晶圓稱為倍縮光罩，通常圖型要放大4 ...
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#5標準產品 - 台灣光罩股份有限公司
... 及進步，臺灣光罩提供一般Binary光罩外，更提供高階制程需求的KrF 及ArF光源相位移光罩(PSM)。 相關光罩規格參考如下. 5X , 4X , 2.5X , 2X , Reticle for stepper ...
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#6光罩
Leading the way to next generation reticle technology. 半導體產業的製程技術，隨世代持續演進，中華凸版提供的光罩解決方案，協助客戶去因應這新技術的挑戰。
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#7光罩制造 - KLA
KLA's inspection & metrology systems for reticle manufacturing & quality ... 在半导体器件生产中，零缺陷光罩（也称为光掩模或掩模）是实现芯片制造高良率的关键 ...
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#8知識力
➤倍縮光罩(Reticle)：當光罩上的圖形線寬與投射到矽晶圓上的線寬不同有縮小，也就是尺寸n:1(目前晶圓廠內大多使用4:1到10:1)，光罩與晶圓(Wafer)上的晶片 ...
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#9光罩_百度百科
光罩 （英文：Reticle, Mask），在製作IC的過程中，利用光蝕刻技術，在半導體上形成圖型，為將圖型複製於晶圓上，必須透過光罩作用的原理，類似於沖洗照片時， ...
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#10光罩傳送盒-Reticle SMIF Pod-RSP150-中勤實業股份有限公司
光罩 傳送盒/ 光罩自動化傳輸盒/ Reticle SMIF Pod / RSP150，可預防汙染，確保6吋光罩在製程站間運送與儲存的安全防護。
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#11產品介紹
光罩 (掩膜版)是IC製造過程中不可或缺的模具，光罩之製造為訂單生產方式，收到客戶訂單後，由資料處理 ... -Reticle dimension：5”x5”x0.09、6”x6”x0.12、6”x6”x0.25
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#12國立交通大學機構典藏：研究半導體光罩缺陷消除技術
關鍵字: 光罩;析出物;重複性缺陷;reticle;haze;repeating defect. 公開日期: 2015. 摘要: 全球光罩都遭遇到析出物造成晶片缺陷的問題，尤其是愈先進製程的光罩愈 ...
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#13微影照像
接（proximity）和投影（projection）、掃描（scan）等數種。光罩上的圖案以1：1. 成像的稱為mask，縮小後成像的稱為reticle。 微影照像製作圖案的主要步驟為：.
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#14光罩:簡介,結構,光刻,積體電路 - 中文百科全書
光罩 （英文：Reticle, Mask），在製作IC的過程中，利用光蝕刻技術，在半導體上形成圖型，為將圖型複製於晶圓上，必須透過光罩作用的原理，類似於沖洗照片時，利用底片 ...
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#15光罩與倍縮光罩的差別? | 蘋果健康咬一口
倍縮光罩（Reticle）：在投影式光刻機中，光罩作為一個光學元件位於會聚透鏡（condenser lens）與投影透鏡（projection lens）之間，它並不和晶圓有直接接觸 ...
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#16E-Reticle光罩ESD 追蹤設備 - 百索商情網
E-Reticle TM. E-Reticle光罩ESD 追蹤設備. ○ 生產線上測量在環境的電場. ○ 單次充電可長達6小時測試時間. ○ 可兼容ASML, NIKON CANON 曝光設備之光罩負載介面.
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#17reticle 光罩
概觀. 先進的光罩處理系統在存儲和運送中可以保護好您價值不菲的光罩英特格(Entegris)提供了一系列光罩傳送盒Reticle SMIF Pod，其設計是在保護，存儲和運輸時能有效地 ...
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#18測機光罩Mask - 產品項目(第1頁列表) - 鉬可精密科技股份有限 ...
光罩 是用來放入微影設備中，以微影設備讓光線通過光罩，而使圖案投影到晶圓表面。這些圖案設計引導了在晶圓上沉積或去除材料. 測機光罩Mask. gotop. CONTACTS.
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#19台積電先進製程重要關鍵，ASML 解析EUV 三大模組功能
整部曝光機是由「照明光學模組」（Illumination & Projection）、「光罩模組」（Reticle）及「晶圓模組」（Wafer）三大部分組成。
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#20台灣光罩股份有限公司 - MoneyDJ理財網
台灣光罩股份有限公司(簡稱：光罩，代碼：2338)，成立於1988年10月21日，為台灣光 ... 二極體, Proximity Aligner, 5X/4X/2.5X/2X Reticle (5吋、6吋).
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#21Centura® Tetra™ EUV 先進光罩蝕刻系統
當採用13.5nm 波長的極紫外光微影技術時，所有的光罩材料都是不透光的，因此具複合多層薄膜的光罩，功用如同反射鏡，可將電路圖案反射到晶圓上。這種多層膜EUV 光罩在臨界 ...
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#22Reticle Mask - 嘉揚科技有限公司
Reticle Mask - 產品資訊- 嘉揚科技有限公司. ... 光罩. Reticle Mask. 詳細介紹. Size, Thickness, Material, Spec. Capability. 3" x 5", 0.09", Quartz ...
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#24關於我們- 億尚
主力產品將涵蓋6吋晶圓傳送盒(150mm SMIF Pods)、8吋晶圓傳送盒(200mm SMIF Pods)、12吋晶圓傳送盒(300mm FOUP)、12吋晶圓運輸盒(300mm FOSB)、光罩盒(Reticle SMIF ...
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#25半導體設備精密對位技術 - 機械工業網
摘要：半導體設備以晶圓疊對與光罩多重曝光製程需求，其晶片座標的重覆定位需要極為精密的對 ... Abstract: In wafer overlay and multi-exposure reticle processes, ...
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#26NIKON RETICLE CASE - 產品介紹- 維將科技
產品名稱：Nikon Reticle Case 光罩盒. ○ 產品編碼：NR-C150. ○ 產品尺寸：186(L) x 213(W) x 37(H)mm. ○ 重量：380g. ○ 容量：1 PCS. ○ 適用光罩：6025光罩 6吋 ...
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#27光罩_搜狗百科
光罩 （英文：Reticle, Mask），在制作IC的过程中，利用光蚀刻技术，在半导体上形成图型，为将图型复制於晶圆上，必须透过光罩作用的原理，类似于冲洗照片时，利用底片 ...
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#28成果報告資料顯示 - 工程科技推展中心
而光學微影技術因使用光波長之限制，如何有效在半導體基板上定義出微小精準的圖 ... 微影製程的目的就是將佈局的圖樣順利轉印到光罩(Reticle/Mask)，再從光罩轉印到晶 ...
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#29產業價值鏈資訊平台> 產品介紹
光罩 產品介紹. 產品名稱, 產品描述, 連結, 附註. 1X Photomask (PLA). Reticle Material, SODA LINE. Reticle Dimension, 4"x4"x0.06". 4"x4"x0.09". 5"x5"x0.09".
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#30光罩和倍缩光罩管理Mask and Reticle Handling - 昆山南宜喜玛 ...
专业经销及代理国际性领导品牌产品，我们除了是英特格Entegris、Mykrolis、Millipore的台湾及中国地区的代理商之外，同时也经销广被推崇的品牌-CEMA喜玛、Greene ...
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#31卡位EUV 供應鏈- EUV pellicle 專利佈局分析 - SEMI
2019 年5 月，ASML 與三井化學簽署授權合約，將ASML 的EUV 光罩護膜(EUV ... 的EUV 專用光阻劑(photoresist)、EUV 曝光機專用的光罩(reticle)、對應EUV 專用光罩的.
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#32關鍵詞(Keywords) - 工業技術研究院
光罩Reticle. 摘要(Abstract). 半導體設備以晶圓疊對與光罩多重曝光製程. 需求，其晶片座標的重覆定位需要極為精密的對. 位技術。在晶圓接合製程中背面對位是應用暫存.
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#3361190384:稅則預先審核案例
TF_ENGLISH_COMMODITY, 光罩缺陷檢測儀(Reticle Defect Inspection Platform)Teron600系列. TF_FACTOR_MATERIAL, 光罩缺陷檢測儀包含固態雷射頭、雷射承載系統(LSS)、 ...
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#34Reticle SMIF Pod 光罩載具 - 中勤實業股份有限公司
光罩 傳送盒/ 光罩自動化傳輸盒/ Reticle SMIF Pod / RSP150，高潔淨度可杜絕空氣中的汙染，確保6吋光罩在製程站間運送與儲存的安全防護，應用於自動化曝光機台。
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#35用帶電粒子射束微影術形成圖案之方法及系統 - Google Patents
光學微影術係一印刷程序，其中使用從光罩(reticle)製造之微影遮罩或光學遮罩以將圖案 ... 其它基板可包含平板顯示器、全息遮罩(holographic mask) 或甚至其它光罩。
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#36光掩膜:在半導體製造的整個流程中 - 中文百科知識
... 一部分就是從版圖到晶圓（wafer）製造中間的一個過程，即光掩膜或稱光罩(mask)製造。 ... 光掩膜有掩膜原版(reticle mask，也有稱為中間掩膜，reticle作為單位譯為 ...
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#37發明專利說明書
準系統(reticle alignment system, RAS)所摘取之一光罩. 上之一對準記號之訊號作為一標準訊號,以校正由一晶片. 對準系統(wafer alignment system, WAS)所摘取之該晶.
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#38关于我们 - 上海大族富创得科技有限公司
致力打造半导体晶圆、光罩传送自动化系统、半导体自动化传输系统定制化的整体解决 ... 富创得光罩（Reticle） SMIF存储槽（Stocker）推出市场，并在中国沈阳成立全资子 ...
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#39家登精密工業股份有限公司
民國92年. 6吋光罩盒通過台積電認證，順利開始量產。 民國93年. 與台積電合作成功研發12吋晶圓廠用光罩傳送盒（Reticle SMIF Pod）並.
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#40光罩熱變形與曝光精準度的研究
關鍵尺寸偏移 ； 延遲曝光 ； 光罩熱變形 ； 曝光精準度 ； critical dimension offset shift ； exposure delay ； Reticle Thermos Deformation ； Exposure ...
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#41【歷史上的今天】搭上EUV熱潮的家登EUV光罩盒很了不起嗎？
其中的Reticle就是倍縮光罩，而光罩盒本身有內盒（innner pod）與外側攜帶盒（carrier）。 回到目錄. EUV光罩盒實際外觀. 照片來源：EET Taiwan。左側 ...
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#42中華大學碩士論文
(2) 光罩細對準(fine reticle alignment)：利用光罩上定義的對準標記，來確認光罩在. 載具上的正確位置，同時也進行了光罩載具及晶圓載具的相對位置對準。 (3) 晶圓預對準( ...
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#43光罩-翻译为英语-例句中文 - Reverso Context
使用Reverso Context: 在又一实施例中，在光罩与CNT表面间可存在气隙。，在中文-英语情境中翻译"光罩" ... 在英语中翻译"光罩". 名词. photomask. reticle.
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#444980K102的學習歷程檔案- 維基知識
光罩 （英文：Reticle, Mask）：在製作IC的過程中，利用光蝕刻技術，在半導體上形成圖型，為將圖型複製於晶圓上，必須透過光罩做用的原理。
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#45光罩英文optical
預計從2017年到2021年之間， Mask ）：在製作積體電路的過程中，光罩(英文:Reticle，必須透過光罩作用的原理，類似于沖洗照片時， are ideal for masks or reticles ...
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#46微影制程之《Mask/Reticle》篇（转） - 智于博客
光罩 (土话叫光刻版)，英文名叫Mask，也叫Reticle(因为早期的对位是十字线)。通常有5寸和6寸两种大小，5寸光罩主要用于5寸和6寸的FAB生产线，而6寸 ...
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#47光罩和倍縮光罩管理Mask and Reticle Handling
專業經銷及代理國際性領導品牌產品，我們除了是英特格Entegris、Mykrolis、Millipore的台灣及中國地區的代理商之外，同時也經銷廣被推崇的品牌-CEMA喜瑪、Greene ...
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#48光罩
倍縮光罩（Reticle）：在投影式光刻机中，掩模作为一个光学元件位于会聚透镜（condenser lens）与投影透镜（projection lens）之间，它并不和晶圆有直接接触。掩模上的图形 ...
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#49ASML台灣引進Reticle Handler模組製造產線，與經濟部合作
DidYouKnow 在半導體製造業中，傳統上如果我們說到「Photomasks」，能夠將圖案以等比例的方式轉移到晶圓上，指的是光罩中的圖案與移轉至晶圓的圖案完全一樣， ...
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#50Reticle Loadport - 樂華科技股份有限公司
Reticle Loadport. 光罩承載台. 開鎖、開蓋裝置使用氣缸驅動, 控制和維修變得更簡單。 夾爪模組增加限位導正功能和地震時的防墜防護提升運送過程的安全性與穩定性。
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#51光罩載具 - 電子時報
光罩 載具分為光罩盒(Mask Package)以及光罩傳送盒(Reticle SMIF Pod)，光罩盒為光罩最基本保護裝置，該產品通常以低氣度逸散(outgassing)塑膠材料為主 ...
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#52兩片全幅光罩拼接台積/博通聯手寫下CoWoS里程碑 - 新電子
台積電近日宣布，與博通(Broadcom)攜手合作，推出業界首創且尺寸最大的兩倍光罩尺寸(2X reticle size) CoWoS中介層，面積約1700平方毫米。
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#53台積公司與博通強化業界首創兩倍光罩尺寸中介層之CoWoS平台
台灣積體電路製造股份有限公司今（3）日宣布與博通公司攜手合作強化CoWoS®平台，支援業界首創且最大的兩倍光罩尺寸(2X reticle.
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#54EP1928764A4 - reticle - Google Patents
US7477358B2 2004-09-28 2009-01-13 Nikon Corporation EUV reticle handling system and method ... TWI391304B * 2005-09-27 2013-04-01 Entegris Inc 光罩盒.
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#55玻璃光罩 - 豐成開發科技有限公司
底片,光罩,玻璃光罩,FILM,光學底片,塑膠光罩,菲林,pcb,CAM,網版,電子零件加工,PED,OEM,ODM,layout,鉻板光罩,MASK,Reticle,印刷電路板,單面板,雙面板,四層板,六層板, ...
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#566 Photolithography
Reticle. Etch. Photolithography. EDA El t i D i A t ti ... 光罩與晶圓直接接觸,限制光罩的壽命. • 產生微粒 ... 從光罩或倍縮光罩(reticle)轉印圖案至. 光阻上.
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#57光罩防塵護膜
Pellicle是一個薄膜展開在框架上，以保護光罩避免微塵的污染。今日Pellicle在大部分的IC製造者的製程及高解析投射成像系統中已經變成一個不可缺少的元件，包含諸如薄膜磁頭 ...
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#58半導體前段/光罩/EDA - 帆宣系統科技股份有限公司
半導體前段/光罩/EDA. ... FOUP Cleaning System, EUV Pod Cleaning System, Reticle/ Wafer Stocker, Reticle / Wafer carrier ...
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#59降低90奈米製程成本Open-Silicon發明多層光罩技術 - 電子工程 ...
所謂的多層光罩是將等級相同的多層光罩寫到一塊光罩板(reticle)上，因而降低光罩總成本。在過去的數年間，也有多家大型晶片廠商試圖利用多層光罩技術 ...
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#60相轉移光罩技術 - 材料世界網
光罩 技術更是微影成像中不可或缺的重. 要一環。有先進的光罩 ... 相轉移光罩的概論及原理、製程技術及. 其在成像應用上的好處。 ... Reticle type. A. Conventional.
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#61法說會
光罩 盒. 微型倉儲. 8”晶舟. 微型倉儲. 後段封裝載具. 微型倉儲/. 標準倉儲. 第一家國產晶圓廠先進製程(Feb ... VMS-153 Reticle Pod zip ... VMS-200 Reticle Box zip.
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#62R 股份有限公司概況資料表（範例）
(6)民國92年元月6吋光罩盒通過台積電認證，順利開始量產。 (7)民國93年與台積電合作成功研發12吋晶圓廠用光罩傳送盒（Reticle SMIF Pod）並開始量產，成為台積電12吋晶 ...
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#63編號查詢： 計畫年度 - 政府研究資訊系統GRB
微影製程的目的就是將佈局的圖樣順利轉印到光罩(Reticle/Mask)，再從光罩轉印到晶圓片上。這個過程雖然是幾合圖像的轉移過程，也是一個非常複雜的光學系統工程，轉印的 ...
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#64家登光罩盒訴訟演出逆轉勝：從賠償9億多元扭轉將系爭專利無效
關鍵字：專利訴訟；智慧財產法院；家登(Gudeng Precision)；英特格(Entegris)；光罩盒(Reticle carrier)；台積電(TSMC).
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#65CTimes - :晶圓,光罩,光掩,晶片,KLA-Tenco,測試系統與研發工具 ...
KLA-Tencor公司推出最新光罩檢測技術，名為「晶圓平面光罩檢測（Wafer Plane ... 影像：光罩平面(reticle plane)、虛像平面(aerial plane) 及晶圓平面(wafer plane)。
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#6645 奈米晶圓對資料庫光罩檢測的視場結果
TeraScanHR 是新的光罩檢測平台，比先前的TeraScanTR. 平台擁有更高的光學成像解析度，可更 ... reticle inspection tool,” 25th Annual BACUS Symposium on Photomask.
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#67ASML官方解析EUV 三大模组功能
整部光刻机是由「照明光学模组」（Illumination & Projection）、「光罩模组」（Reticle）及「晶圆模组」（Wafer）三大部分组成。 为了让大家更了解EUV 基本运作 ...
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#68产品分类一_亚博登录平台
Leading the way to next generation reticle technology. 半導體產業的製程技術，隨世代持續演進，亚博登录平台提供的光罩解決方案，協助客戶去因應這新技術的挑戰。
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#69Ch 6: Lithography
光罩. 積體電路生產廠房 ... 光罩/倍縮光罩. (Mask). 曝光. Exposure. 顯影. Development. 紫外光. 負光阻. 基片. 正光阻. 基片. 光阻 ... Reticle. Wafer. Projection.
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#70J-GoodTech 家登精密工業股份有限公司GUDENG PRECISION ...
Reticle Carrier：光罩盒, 光罩傳送盒, Nikon/Canon 光罩盒, TFT-LCD 光罩盒。 2. Wafer Carrier：晶圓Cassette, 450mm FOUP and FOSB 。 3.
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#71光罩- 芯知社区 - 集成电路
微影制程之《Mask/Reticle》篇（转）. 黄光的部分应该只剩下光罩了，你复制图形，一定的有底片吧，其实光罩就是我们洗照片的底片。
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#72Canon FPA-3000i5+ Stepper
即會造成如圖六之現像，而旋轉發生的原因與光罩本身有無旋轉有關連，故此項. 補正常常與光罩旋轉補正（Reticle Rotation）互為因果。圖六之實線為正常圖案，.
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#73國內3D IC製程設備產業之發展商機
在半導體產業中，黃光設備的目的主要是完成高解析度的奈米級(nm)圖案化線路，需要精. 密的光學系統，配合利用光罩(Mask、Reticle)、光阻劑(Photo Resist)，並 ...
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#74ASML德國工廠發生火災損失仍需評估 - 自由財經
... 的光刻機製造零組件，艾司摩爾在聲明中指出，這些零組件包括晶圓台（wafer tables）、光罩吸盤（reticle chucks）和反射鏡（mirror blocks）。
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#75光罩盒( RSP ) - TOPCO Scientific Co. LTD - 崇越科技股份有限 ...
提供客戶在生產與製作6 吋光罩時良好的儲存與保護環境。 Low outgas & low inorganic ion; ESD safe; Visibility of Reticle; Particle performance ...
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#76ASML德國廠驚傳火警恐衝擊全球晶圓廠擴產 - 奇摩股市
ASML傳出火災的工廠，主要負責生產光刻機極紫外光（EUV）與深紫外光（DUV）製造零件，其中包含晶圓檯（wafer tables）、光罩盤（reticle chucks）、 ...
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#77北美智權報第123期：微影顯像： EUV的替代品會是什麼？
他補充說道，「我們仍然沒有建立網版(reticle)的『生態系統』，光阻和其他 ... 隨著各項技術的進步，包括SEMATECH的零缺陷光罩、低劑量且高解析光阻、 ...
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#78義守大學工業工程與管理學系
正型光阻；反之，曝光部分不溶於顯影劑，晶圓上定義出之圖案與光罩上之圖案相反者 ... 光罩(reticle)的主體是由平坦且透明的玻璃所構成，使用的玻璃材料視使用之光源而.
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#79相位移光罩原理 - 軟體兄弟
為了滿足不斷發展的LSI為更精細的圖案的需求，我們以新一代曝光技術持續開發了相位移光罩和 ... ,光罩（英語：Reticle, Mask）：在製作積體電路的過程中，利用光蝕刻 ...
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#80光罩的英文單字 - 漢語網
incoming reticle quality inspection:the simplicity and speed of rdr mode facilitate the ability to check printability of reticle defects across the process ...
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#81Reticle-光罩-Chrome扩展插件
Reticle光罩,拖动并调整标尺叠加层的大小可快速测量任何网页上元素的像素尺寸，位置和对齐方式。Drag and resize a ruler overlay to quickly measure pixel ...
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#82登入下載全文 - tku
Title (in Chinese), 半導體黃光製程覆蓋誤差改善 ... 晶圓細對準(Fine wafer alignment) 27 3.1.5 光罩載具對準(Reticle stage alignment) 27 3.1.6 光罩對準(Reticle ...
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#83掩膜板/光罩（Photo Mask/Reticle）_幻孤 - 新浪博客
掩膜板/光罩（Photo Mask/Reticle）_幻孤_新浪博客,幻孤, ... 硅片上的电路元件图形都来自于版图，因此掩膜板的质量在光刻工艺中的扮演着非常重要的 ...
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#84產品缺陷即時偵測及回饋控制系統-- 應用於半導體光罩產業
論文名稱：, 產品缺陷即時偵測及回饋控制系統-- 應用於半導體光罩產業. Real Time Defect Monitoring & Dynamic Feedback Control System - - Applied in Photo Mask ...
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#85光罩儲存及存取系統 - 產品交易首頁
i-Cell Bare Reticle Stocker ○Effective XCDA or N2 sealed storage chambers t.
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#86EV Group推無光罩微影技術攻先進封裝市場- 財經 - 中時新聞網
MLE是全球首創為量產環境提供高擴充性的無光罩微影技術，除了結合高解析 ... 方面，由於產品組合相當複雜，光罩（mask）／微縮成像光罩（reticle）的 ...
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#87ASML 以3 種方式控制半導體微影設備恆溫，以打造奈米等級晶片
另外，高劑量曝光會使「光罩」（Reticle）熱膨脹，加上晶圓平台的馬達線圈產生熱能，使「晶圓」（Wafer）膨脹變形，影響疊對精準度。
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#88光罩光罩
光罩光罩 （英語： Reticle， Mask ）：在製作集成電路的過程中，利用光蝕刻技術，在半導體上形成圖型，為將圖型複製於晶圓上，必須透過光罩作用的原理[1]。比如沖洗照片時 ...
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#89EUV POD - 銘乾的分享空間
光罩 傳送盒RSP(Reticle SMIF Pod)是依據隔離進出料標準機械介面技術(Standard Mechanical Interface)所設計開發出用來自動傳送光罩的一個密封容器，光 ...
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#90家登侵權官司敗訴邱銘乾：將提二審上訴 - 工商時報
英特格對家登提出的專利訴訟，主張家登所製造販售的Reticle SMIF Pod光罩傳送盒侵害其「光罩載具及支撐光罩之方法」專利技術特徵，台灣智慧財產法院22 ...
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#91光罩盒圖片 - 阿里巴巴商務搜索
阿里巴巴為您找到約82張光罩盒圖片，阿里巴巴的光罩盒圖片大全擁有海量精選高清圖片，大量的細節圖，多角度拍攝，全方位真人展示，為您購買光罩盒相關產品提供全方位的 ...
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#92光罩懶人包@懶人部落| lazyblog.cc
樂華科技Reticle Loadport光罩承載機光罩2月營收4.03 億元| TechNews 科技新報科技新報TechNews、 隨台積電布局先進製程，光罩盒廠家登斥資9.1 億元購買土地擴產.
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#93顧客與市場發展 - 國家品質獎
光罩 傳載解決方案-載具類. Mask Carrier. 光罩載具. EUV Pod. 極紫外光製程光罩盒. Photomask Pack. 光罩盒. Reticle SMIF Pod. 光罩傳送盒. Metal Mask Package.
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#94台積電攜手博通強化新一代CoWoS平台為衝刺5奈米製程準備
台積電（2330）今（3）日宣布與博通攜手合作強化CoWoS平台，支援業界首創且最大的兩倍光罩尺寸(2X reticle size)的中介層，面積約1700平方毫米， ...
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#95【光刻】集成掩模检测系统Integrated Reticle Inspection ...
检测光罩的方法及利用其减少半导体产品返工率的方法. 中国专利CN 102023472 B[P]. 2012. 4-4. [2] 韦亚一. 超大规模集成电路先进光刻理论与应用.
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#96煒騰光電
除此之外， 煒騰光電更積極延伸各項與光罩相關的設備與周邊產品諮詢與設計， ... 1:1, 1:4X, 1:5X Reticle (of Stepper) for IC Foundry, LED, Packaging, MEMS. 光罩 ...
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#97ASML官方解析EUV 三大模組功能 - 壹讀
整部光刻機是由「照明光學模組」（Illumination & Projection）、「光罩模組」（Reticle）及「晶圓模組」（Wafer）三大部分組成。
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#98家登精密選擇VICTREX PEEK聚合物應用於光罩盒半導體 - 新通訊
威格斯(Victrex)宣布家登精密(Gudeng)已採用VICTREX PEEK聚合物作為其最新款150毫米單光罩標準機械介面傳送盒，簡稱光罩傳送盒(Single-reticle ...
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reticle光罩 在 新電子科技雜誌 Facebook 的精選貼文
業界首創且尺寸最大的兩倍光罩尺寸(2X reticle size) CoWoS中介層，由兩張全幅光罩拼接構成，能夠大幅提升運算能力，藉由更多的系統單晶片來支援先進的高效能運算系統。
#TSMC #Broadcom #先進封裝
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