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使用多重射束帶電粒子束微影術於表面上形成圖案之方法

因此，形成於倍縮光罩或遮罩的圖案必須比在基板或晶圓上所欲之圖案的尺寸大四倍。 在生產或製造如積體電路的半導體裝置中，非光學方法可被用於將一微影遮罩上之 ...

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