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台積電聯手交大研究首登國際期刊《自然》，3奈米製程突破 ...

步入三奈米製程，「氮化硼」成絕緣體材料新解 ... 當製程持續往下走、通道勢必越來越小，若沒能靠更好的絕緣體排除掉可能依附的電荷所造成的阻礙，晶片的 ...

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