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半導體製程設備技術 - 第 117 頁 - Google 圖書結果

緩衝蝕刻液(BOE)在溶液中加入了氟化氨(NH 4 F)及適量的界面活性劑(surfactant)的混合液,作為氫氟酸(HF)對二氧化矽(SiO 2 )蝕刻作用時的緩衝溶液,所謂的化學緩衝劑就是 ...

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