你即將離開本站

並前往https://twgreatdaily.com/514677155_120812280-sh.html

半導體工藝》濕法蝕刻中不同蝕刻方法和各種蝕刻劑影響的綜述

無論氫氧化鉀溶液的濃度如何，二氧化矽的蝕刻速率隨著溫度的升高而不斷增加。使用33重量%的二氧化矽，在80℃下的最大二氧化矽蝕刻速率為450納米/小時。% ...

確定！ 回上一頁

查詢 「二氧化矽蝕刻液」的人也找了：

  1. 蝕刻液 種類
    2.
  2. ITO 蝕刻 液 成分
    3.
  3. 金 蝕刻液
    4.
  4. 銀 蝕刻 液
    5.
  5. 銅 蝕刻 液 msds
    6.
  6. 鎳 蝕刻 液 成分
    7.
  7. 鉻 蝕刻 液
    8.
  8. 氮化矽蝕刻
    9.