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RCA clean 製程 - 弘塑科技股份有限公司

SC-1(APM), 利用氨水之弱鹼性活化矽晶圓及微粒子表面，使晶圓表面與微粒子間相互排斥，進而達到洗淨目的；雙氧水也可將矽晶圓表面氧化，藉由氨水對二氧化矽的微蝕刻 ...

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