一般半導體製程中在蝕刻二氧化矽通常是用BOE做為蝕刻液,溢流清洗各位板友大家 ... 以氫氟酸及氟化銨(hf/nh4f; boe or bhf)所形成之緩衝溶液來蝕刻二氧化矽層,固 ...
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