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半導體製程設備 - 第 259 頁 - Google 圖書結果

第七章乾蝕刻機 7.1 緒論>乾蝕刻( dry etching )即是利用射頻( RF , radio frequency )電源,製造電漿( plasma ) ,造成職熱放電( glow discharge ) ,產生反應性的物質, ...

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