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12 吋智慧終端離子性蝕刻機(Canon Anelva IBE Etcher) 儀器簡介

本設備為12 吋離子性蝕刻機(Ion Beam Etcher)，具備產生離子源. 之後段製程腔體，為一低損傷電漿蝕刻系統之設計，採用離子轟擊方. 式進行惰性金屬薄膜蝕刻，達到一般 ...

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