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乾蝕刻製程技術 - 弗侖斯系統股份有限公司

機台: ULVC 3000 乾蝕刻機. Gas system: SF6, CF4 製程: • Silicon oxide etch • Silicon nitride etch • Polymer discumm. ◇ 感應耦合電漿反應式離子矽深蝕刻

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