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半導體乾蝕刻技術

蝕刻技術可以分為「濕蝕刻（Wet Etching ）」及「乾蝕刻Dry Etching 兩類。在濕蝕刻中是使用化學溶液，經由化學反應以達到蝕刻的目的；而乾蝕刻「半導體乾 ...

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