圖形結構的蝕刻,並比較不同蝕刻遮罩材料(正光阻(AZ 4620)、負光阻(KMPR 1050) 及 ... (4) (chemical wet etching) 和乾蝕刻(dry ... 其中化學性濕蝕刻技術是利用氫.
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