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黃光微影製程技術

Pre -bake (Soft-bake) (90℃/1.5min OR 90℃/30min) / Cooling. 2. Exposure ... Wafer ╬. ╬. ╬. ╬. Alignment. 利用對準標誌（align mark）將光罩與晶片進行校準 ...

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