第一章緒論論文之主題是PECVD 沉積薄膜因Wafer Arcing 造成沉積薄膜厚度不均. 而導致IC 良率下降... 物理氣相沉積(PVD)製程中也會使用 ... 這個區域呈現負電阻的現象。
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