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光刻技術 - 中文百科全書
EUV系統主要由四部分組成,即反射式投影曝光系統、反射式光刻掩模版、極紫外光源系統和能用於極紫外的光刻塗層。其主要成像原理是光波波長為10~14nm的極端遠紫外光波經過 ...
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