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wafer aligner原理
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光刻機結構組成及工作原理 - 人人焦點
光刻機(Mask Aligner) 又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對準光刻,所以叫Mask Alignment System.
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