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鍍膜工藝簡介物理氣相沉積法(Physical Vapor Deposition)

Physical Vapor Deposition)，簡稱PVD。 PVD 一般區分為三種，分別是真空蒸著(Vacuum Evaporation)、濺鍍(Sputtering)、離子鍍著(Ion. Plating)。

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