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沉积包含SiO及SiN的可流动薄膜的方法与流程 - X技术

目前，由三硅基胺(trisilylamine；TSA)与自由基形式NH3/O2一起作为共反应物生成 ... 图示的结构意欲包含具有标明化学式的所有这些络合物及配位体。

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