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[19]中华人民共和国国家知识产权局

沉积(03/TEOS以形成具有可流动性的二氧化硅(Si licon oxide)介电质层50,以达到IMD平坦. 化作用;其中反应物质为伴有臭氧O3气体的四乙氧基硅烷(T.

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