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teos半導體
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探討化學氣相沉積在先進動態隨機存取記憶體淺溝槽絕緣的填洞 ...
國立交通大學工學院半導體材料與製程設備研究所探討化學氣相沉積在先進動態隨機 ... 在本實驗中亦探討TEOS 的初期流量以及完成HARP 之玻璃沉積後回火處裡方式對淺溝槽 ...
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「teos半導體」
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TEOS oxide
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