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半导体制造、Fab以及Silicon Processing的基本知识A www ...

180 TEOS（TETRAETHYLOR THOSILICATE） 四乙基氧化硅1. 化学式：Si (OC2 H5)4，与常温下伟业体态。 2. 用途：与经化学反应后，可生成一层二氧化硅，在IC里通常被当作 ...

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