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cvd 製程CVD沈積原理 - Miubu

CVD沈積原理矽乙烷Disilane (Si2H6)為半導體先進製程及相關高階工藝製程之關鍵 ... TEOS在室溫常壓下為液態，為了方便CVD製程的使用及製程的穩定性，在使用時對裝 ...

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