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TEOS 處理設備

以TEOS為主的LPCVD-SiO2反應，因為TEOS-SiO2的階梯覆蓋(Step Coverage)能力甚佳，已廣泛的為半導體業界所採用。 TEOS Scrubber利用吸附劑所內含的鉀、鈉或鈣原子，對極性 ...

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