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一種新式薄膜電晶體製程:薄膜形貌工法

如此一來，只需在原本的BEOL 步驟中額外加上一層光罩定義通道層之圖形 ... 低了通道缺陷的數目，因此可改善元件的次臨界擺幅(subthreshold swing)。此外，由於通道層.

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