最簡單的NMOS IC積體電路製程有五道光罩步驟:活化、匣極、接觸窗、金屬以及連接墊 ... 早期的STI製程– 氧化物回蝕刻– 選擇適當的CF4/O2 – 終端點的判斷藉由C-N譜線• ...
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