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半導體皇冠上的明珠：瓦森納與光刻機你了解多少

光刻機能夠利用曝光系統發射出的紫外線通過模版去除晶圓表面的保護膜， ... 第二種則是利用類似投影機原理，能夠獲得比模板更小的曝光圖樣的Stepper。

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