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半導體器件用光掩模 - 凸版印刷

硅模板掩膜（Silicon stencil mask）是為了形成圖案而加工了納米級貫通開口的電子束光刻（EB光刻：Electron Beam Lithography）用光掩模。 EB光刻技術作為取代以往光刻 ...

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