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第十章介電質薄膜SiO , Si N

STI. 圖10.2. STI. PMD 或. ILD1. IMD 或. ILD2. ARC. PD1. PD2. 側壁空間層. WCVD. TiN. CVD. ARC: 反射層鍍膜; IMD: 金屬層間介電質層; PMD: 金屬沈積前的介電質層;.

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