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電漿源原理與應用之介紹

蝕刻技術中，正離子經由電漿鞘層(Plasma Sheath)加速. 後轟擊矽晶圓，使其表面原子的鍵結破壞進而能迅速. 與活化粒子進行化學反應達到蝕刻效果。另外如在鑽.

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