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CN1198323C - 半导体晶片的清洗方法 - Google Patents

然后进行快速清洗过程，以大量去离子水清洗晶片，以去除残留在晶片表面的SC2清洗液。 在上述的RCA工艺中，因为所使用的化学清洗液(SC1清洗液或SC2清洗液)是采用固定的浓度 ...

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