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半導體行業（七十八）——加熱工藝（十九

但是一些不關鍵的離子注入過程（如阱區注入）仍可以使用高溫爐退火，大部分離子注入退火過程必須使用RTA技術。 RTP系統能夠快速使晶圓溫度上升或下降。

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