RTA 在现代半导体产业有重要的应用。可以用极快的升温在目标温度(1000℃左右)短暂持续,对硅片进行热处理。注入硅片的退火经常在注入Ar或者N2的快速热处理机(RTP)中进行 ...
確定! 回上一頁