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半导体工艺与设备-3 加热工艺与设备- 一团静火

利用快速热处理（Rapid Thermal Processing，RTP）设备对离子注入后的晶圆 ... 之间，由不同区域之间的浓度和温度差异驱动物质分布至均匀的平衡状态。

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