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关注半导体设备国产化：氧化与RTP工艺漫谈及北方华创 ... - 网易

RTP 设备是一种单片热处理设备，可将硅片温度快速升至200-1300℃的工艺所需温度，升/降温速率一般为20-250℃/s，降温速率快。RTP在快速热退火中的应用最为 ...

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